現(xiàn)場供氣，是一種在發(fā)達(dá)國家非常成熟的氣體供應(yīng)方式，其含義是由專業(yè)氣體公司在氣體用戶現(xiàn)場，為滿足生產(chǎn)工藝中對氣體種類、 純度和壓力等的不同需求，提供氣體解決方案，投資建設(shè)和管理氣體生產(chǎn)和供應(yīng)裝置,一對一地供應(yīng)工業(yè)氣體。 使用第三方現(xiàn)場供氣可以克服富裕氣體產(chǎn)品因淡旺季差異對供應(yīng)可靠性的影響，大大提高供應(yīng)的可靠性，并且由于供應(yīng)方式的改變使得氣體使用成本大大下降。從國際經(jīng)驗看，海外絕大多數(shù)的客戶選擇了第三方供氣，而不是由客戶自己投資建設(shè)氣站，其原因是：
－省力。在需要用氣時打開閥門不需要時就關(guān)掉它，不須花錢買設(shè)備，費力管設(shè)備，用氣就像使用自來水一樣的方便；
－省心。氣體設(shè)備的運行風(fēng)險、生產(chǎn)成本和氣體質(zhì)量由專業(yè)氣體公司承擔(dān)和控制，在整個合同期內(nèi)用氣成本清晰明了不受市場波動影響；
－可靠。氣體的現(xiàn)場制氣系統(tǒng)融合了當(dāng)今世界先進(jìn)技術(shù)水平的現(xiàn)場制氣方案和設(shè)備。現(xiàn)場制氣系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)全天候的在線和遠(yuǎn)程控制，能自產(chǎn)備用液氧、液氮保障客戶用氣的性；

對于需求高純度氣體供應(yīng)的化工企業(yè)， 璟和電子科技將會尋找適合的方案，為每一位朋友節(jié)約每一分錢成本，帶來每一份流暢可靠的服務(wù)。


氮氣在化工廠，主要用作保護(hù)氣、置換氣、洗滌氣，以保障安全生產(chǎn)
氫、氧等作為能量介質(zhì)是航空、航天的重要燃料；
氬、氮、氦作為保護(hù)介質(zhì)用于生產(chǎn)高純凈、超絕緣、超導(dǎo)等高新技術(shù)領(lǐng)域；
半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)是現(xiàn)代信息社會的核心基礎(chǔ)產(chǎn)業(yè)?，F(xiàn)今的半導(dǎo)體技術(shù)，以高頻、大電流、高電壓、低功耗、納米加工技術(shù)、SoC設(shè)計、SiP封裝技術(shù)為特征，依然充滿創(chuàng)新的活力。半導(dǎo)體光電、太陽能光伏、MEMS等新一代半導(dǎo)體基礎(chǔ)產(chǎn)業(yè)，新型平板顯示、下 一代互聯(lián)網(wǎng)、物聯(lián)網(wǎng)、智能電網(wǎng)、汽車電子、節(jié)能環(huán)保等21世紀(jì)的戰(zhàn)略性新型產(chǎn)業(yè)的發(fā)展都將以半導(dǎo)體技術(shù)與產(chǎn)品為重要基礎(chǔ)。 半導(dǎo)體行業(yè)常用氣體：NH3 氨氣應(yīng)用：CVD工藝植入氮化硅薄膜，在帶間隙的高
      速、高功率半導(dǎo)體晶體管上植入氮化硅化合物等。N20 一氧化二氮 (笑氣)應(yīng)用：和硅烷一起用于在CVD過程中生成氮化硅薄
      膜。SiH4 硅烷應(yīng)用：在外延生長技術(shù)中用作硅源、用于低溫二氧
      化硅CVD、用于氮化硅CVD 、氯硅烷類及烷基氯硅烷類的骨架結(jié)構(gòu)，硅的外延生長、多晶硅、氧化硅、氮
      化硅等的原料。BCl3 三氯化硼應(yīng)用：等離子刻蝕、在離子植入中用作硼源（N摻雜）CO2 二氧化碳應(yīng)用：在半導(dǎo)體制造中氧化、擴(kuò)散、化學(xué)氣相淀積，CVD中改變?nèi)ルx子水的導(dǎo)電性。C4F8 八氟環(huán)丁烷應(yīng)用：刻蝕氣體 / 等離子刻蝕SF6 六氟化硫應(yīng)用：等離子刻蝕CF4 四氟化碳應(yīng)用：以純四氟化碳或者和氧氣混合的方式，用于在CVD過程之前，對二氧化硅、氮化硅、多晶硅和一些
      硅－金屬化合物進(jìn)行的等離子刻蝕Xe 氙氣應(yīng)用：在離子植入中作為電子源