美國ENTEGRIS英特格產(chǎn)品和解決方案包括：
凈化氣體、流體和周圍工廠環(huán)境的過濾產(chǎn)品
分配、控制、分析或運(yùn)輸過程流體的液體系統(tǒng)和組件
安全儲(chǔ)存和輸送有毒氣體的氣體輸送系統(tǒng)
用于先進(jìn)節(jié)點(diǎn)沉積和清潔的特殊化學(xué)品
 
保護(hù)半導(dǎo)體晶圓免受污染和破損的晶圓載體和托運(yùn)人
提供高純度表面以實(shí)現(xiàn)耐磨、防腐蝕和光滑的特種涂層
用于高性能應(yīng)用的優(yōu)質(zhì)石墨和碳化硅
用于保護(hù)和運(yùn)輸磁盤驅(qū)動(dòng)器組件的托運(yùn)人和托盤。公司情況說明書
致力于通過廣泛的解決方案組合、協(xié)作和創(chuàng)新的產(chǎn)品開發(fā)以及對(duì)科學(xué)和應(yīng)用知識(shí)的關(guān)注來解決客戶最苛刻的工藝挑戰(zhàn)。
Chambergard  氣體擴(kuò)散器
快速排氣擴(kuò)散器，不會(huì)在工藝室中引入或干擾顆粒。
Chambergard  快速排氣擴(kuò)散器可快速排氣至大氣，而不會(huì)干擾或向腔室中的晶片添加顆粒，通過最大限度地減少負(fù)載鎖定排氣循環(huán)時(shí)間來提高系統(tǒng)吞吐量。它們將擴(kuò)散器的流動(dòng)特性與高效過濾器相結(jié)合，以提高效率和吞吐量。
 Chambergard  FV50D XL 氣體擴(kuò)散器
Chambergard FV50 氣體擴(kuò)散器可快速減少負(fù)載鎖定和傳輸室中的顆粒和排氣時(shí)間，并具有高效且堅(jiān)固的鎳盤膜。
入口連接
1/4" VCR  兼容公墊圈密封接頭
插座連接
ISO NW50 隔板安裝與標(biāo)準(zhǔn) ISO 隔板夾兼容
行業(yè)
半導(dǎo)體 平板顯示器 數(shù)據(jù)存儲(chǔ) 引領(lǐng)
過程
散裝氣體輸送 沉積 干蝕刻 離子注入
Chambergard  快速排氣擴(kuò)散器
Chambergard  快速排氣擴(kuò)散器可減少負(fù)載鎖定和傳輸室中的顆粒和排氣時(shí)間。實(shí)現(xiàn)快速排氣，而不會(huì)干擾或向晶片添加顆粒。
行業(yè)
半導(dǎo)體 平板顯示器 數(shù)據(jù)存儲(chǔ) 引領(lǐng)
過程
散裝氣體輸送 沉積 干蝕刻 離子注入
Chambergard  BGN 快速排氣擴(kuò)散器
Chambergard  BGN 快速排氣擴(kuò)散器可提供高通量和快速排氣到大氣。獲得專利的燒結(jié)鎳濾芯可快速擴(kuò)散進(jìn)入的氣流。
入口連接
密封墊片 對(duì)接焊縫
插座連接
ISO NW 隔板安裝兼容真空法蘭 無（無法蘭）
行業(yè)
半導(dǎo)體 平板顯示器 數(shù)據(jù)存儲(chǔ) 引領(lǐng)
過程
散裝氣體輸送 沉積 干蝕刻 離子注入
 

通過減少負(fù)載鎖定和傳輸室中的顆粒和排氣時(shí)間來提高效率和吞吐量。

獲得專利的燒結(jié)鎳技術(shù)可在所有應(yīng)用中提供卓越的性能
設(shè)計(jì)能夠從進(jìn)入的氣體中去除大于 0.0015 µm 的顆粒，從而最大限度地減少晶圓缺陷
提供快速排氣，而不會(huì)干擾或向晶圓添加顆粒，減少循環(huán)時(shí)間，同時(shí)提高產(chǎn)量
將擴(kuò)散器的流動(dòng)特性與高效過濾器相結(jié)合，以提高效率和吞吐量
易于改裝/安裝到現(xiàn)有工具中，最大限度地減少停機(jī)時(shí)間。
WG3D16TR2
WG3D228R2    
WG3D25LR2
WG3D25SR2    
WG3D350R2    
WG3D35BW2
WG3D3LBW2
WG3D401R2
WG3D40DR2    
WG3D40TR2    
WG3D50DR2